【四海读报】20260626–电子特气与电子大宗气体全景分析报告

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一、一句话核心观点

国信证券2026年6月电子气体专题维持行业“优于大市”评级,AI算力、先进制程、HBM/3D NAND扩容持续拉动电子特气与电子大宗气体需求,行业具备技术、认证、资金等高壁垒,国产替代空间广阔,重点布局广钢气体、金宏气体、昊华科技等国内头部电子气体企业。

二、文档思维导图

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三、文档表格化完整总结

表1 报告基础概况

项目 详细内容
报告名称 电子特气与电子大宗气体全景分析报告
出具机构 国信证券,分析师杨林、张歆钰
发布时间 2026-06-25
行业评级 优于大市(维持)
核心赛道 电子特种气体、电子大宗气体
核心驱动 AI算力芯片、先进逻辑、HBM、3D NAND扩产抬升单位晶圆耗气量;政策扶持+海外供给缺口加速国产替代
核心投资逻辑 电子气体为半导体核心刚需耗材,行业多重高壁垒构筑护城河;大宗气长协现金流稳定,电子特气国产替代空间最大
推荐标的 广钢气体、金宏气体、昊华科技
主要风险 宏观及半导体下游周期下行、行业竞争加剧、上游原材料价格大幅上涨

表2 全球&国内工业气体市场规模汇总

市场维度 统计口径 关键数据 增速
全球工业气体 2021规模1448亿美元,2026预测 2031亿美元 2021-2026 CAGR7%
中国整体工业气体 2017:1211亿元;2024:2486亿元 2486亿元 整体CAGR10%+
国内大宗气体 2017:1036亿元;2024:1906亿元 1906亿元 CAGR9%
国内特种气体 2017:175亿元;2024:580亿元 580亿元 CAGR19%
国内电子气体(特气+大宗) 2024年合计195亿元,2028预测 256亿元 长期稳定上行
全球半导体用电子气体 2025年63.4亿美元(特气45.3亿,大宗18.1亿) 2028年超70亿美元 AI驱动持续增长

表3 电子特气下游应用分布

下游行业 电子特气消费占比 核心用气环节
集成电路 42% 刻蚀36%、掺杂34%、其他30%
显示面板 37% CVD、干法刻蚀、薄膜沉积
LED 13% 外延沉积、掺杂
光伏 8% 硅片刻蚀、减反膜沉积

表4 电子大宗气体 vs 电子特种气体核心对比

对比维度 电子大宗气体 电子特种气体
代表品类 高纯氮、氧、氩、氢气、二氧化碳 三氟化氮、硅烷、六氟化钨、氟碳气等260余种
单品类用量 用量极大,贯穿全产线 单品种用量小,单工艺专用
主流供应模式 现场制气(On-site) 气瓶零售供气为主
合作周期 15年以上长期照付不议协议 3-5年短期合同
纯度标准 最高9N 主流6N
行业竞争格局 林德、液化空气、空气化工+广钢“3+1”,高度集中 厂商众多,外资仍主导高端,国产加速突破
业务特点 现金流稳定、强抗周期、客户极难替换 单品附加值高,国产替代空间广阔

表5 电子特气五大行业壁垒明细

壁垒类型 具体内容 行业影响
技术壁垒 合成、纯化、气瓶处理、精密检测技术门槛高,高端工艺仍存卡脖子问题 短期难以新进入者,头部企业具备长期技术优势
认证壁垒 晶圆厂+设备商双重认证,IC认证周期2-3年,认证后客户极少更换供应商 先发企业锁定长期订单,新厂商导入周期漫长
市场壁垒 外资长期垄断供应链,国产缺少上机验证机会 下游国产晶圆厂优先本土厂商,壁垒逐步弱化
人才壁垒 半导体工艺、气体研发复合型专业人才稀缺 产业扩张速度受人才供给约束
资金壁垒 精密纯化设备、危化储运、现场制气重资产投入 行业资本门槛高,中小厂商难以扩产

表6 国内企业四大核心技术突破成果

技术类别 行业通用标准 国内企业实现水平
气体纯化 常规6-8N 部分气体稳定做到9N纯度
气体混配误差 ±5% 控制在±2%以内,优于行业标准
气瓶内壁光洁度 0.5μm 0.1~0.5μm,腐蚀性气体1年纯度波动<1%
微量检测精度 1~10ppb 可达0.1ppb,检测精度大幅领先

表7 AI拉动电子气体需求三大核心逻辑

AI产业链环节 产业变化 气体需求增量逻辑
AI服务器&晶圆代工 2026全球晶圆代工产值+24.8%;7nm以下先进制程产能CAGR14% 先进制程刻蚀次数从65nm约20次升至5nm160次,氟/氯/溴刻蚀气体需求倍数增长
HBM高带宽内存 2026 HBM市场460亿美元,2030年980亿 TSV深硅刻蚀需求爆发,六氟化硫、八氟环丁烷、六氟丁二烯消耗量大幅提升
3D NAND存储 堆叠层数突破200层,2034市场2132亿美元 台阶刻蚀、通孔清洗工序成倍增加,沉积、清洗类电子特气持续放量

表8 全球前十大电子特气2025年市场规模

电子特气品类 全球市场规模(亿美元) 核心应用场景
三氟化氮 21.23 IC/面板清洗、刻蚀
氨气 13.20 半导体CVD沉积
硅烷 11.10 薄膜沉积、光伏
六氟化钨 6.41 逻辑/存储金属沉积
六氟丁二烯 6.26 高深宽比刻蚀(3D NAND/HBM)
六氟化硫 3.25 通用干法刻蚀
磷烷 3.20 半导体掺杂
氙气 2.64 光刻、离子注入
一氧化二氮 2.35 氧化沉积工艺
氟化氢 2.15 晶圆清洗、刻蚀

表9 三氟化氮国内外核心产能格局

企业阵营 代表企业 现有年产能(吨) 行业地位
海外企业 SK Materials 13500 全球老牌龙头
  韩国晓星 7500 持续收缩产能
  关东电化 3700 事故减产,供给收缩
国内龙头 中船特气 18500 全球第一大三氟化氮厂商
  南大光电 5400(规划+2000) 国产二线龙头
  昊华科技 6000(规划+3000) 覆盖多品类氟系特气

表10 国内头部电子气体企业核心业务布局

标的 核心赛道 核心优势&客户资源
广钢气体 电子大宗气体 国内唯一打破外资垄断的现场制气厂商,10家12寸晶圆厂认证,2024大宗气市占15%
金宏气体 电子大宗+电子特气 拿下北方集成、华润上华大额现场制气长单,覆盖中芯、积塔等晶圆厂
昊华科技 电子特种气体 三氟化氮、六氟化钨等高端氟系特气量产,进入国内外头部芯片、面板供应链
华特气体 光刻气、高纯氟气 率先通过ASML认证,供应台积电、英特尔、中芯国际
中船特气 氟系电子特气 全球三氟化氮龙头,覆盖台积电、美光、京东方全产业链客户

表11 国内电子气体相关政策梳理(核心摘要)

政策发布周期 核心政策文件 扶持重点
2009-2017 火炬计划、新材料指南、十三五规划 将高纯电子特气列为战略新材料,鼓励产业化
2019-2021 产业调整目录、十四五纲要 电子化学品全部划入鼓励发展产业
2024-2025 精细化工实施方案、石化稳增长方案 重点推进电子特气“一条龙”示范,攻关半导体配套关键气体

表12 行业三大核心风险拆解

风险类型 风险描述 潜在负面影响
下游周期波动 半导体、AI资本开支不及预期,晶圆厂扩产放缓 电子气体需求疲软,企业订单、营收增速下滑
市场竞争加剧 国内企业集中扩产,单品价格战压缩盈利 行业毛利率持续下行,中小企业盈利承压
原材料涨价 氟、钨、稀有气体等上游原料价格上行 生产成本抬升,企业利润空间收窄

表13 电子大宗气体国内新建项目竞争格局(2018-2022)

企业 新建现场制气项目中标产能占比 市场定位
广钢气体 25.40% 国内本土龙头,市占第一
林德气体 23.40% 海外巨头
液化空气 23.10% 海外巨头
空气化工 21.20% 海外巨头
其他厂商 6.90% 中小配套厂商
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THE END
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